由于SEM的工作方式與電子束曝光機十分相近,最初的電子束曝光機是從SEM基礎上改裝發展起來的，近年來隨著計算機技術的飛速發展，將SEM改裝為曝光機的工作取得了重要進展。
主要改裝工作是設計一個圖形發生器和數模轉換電路，并配備一臺PC機。PC機通過圖形發生器和數模轉換電器去驅動SEM的掃描線圈，從而使電子束偏轉。同時通過圖形發生器控制束閘的通斷，最終在工件上描繪出所要求的圖形。通常采用矢量掃描方式描繪圖形，即在掃描場內以矢量方式移動電子束，在單元圖形內以光柵掃描填充。
對SEM進行改裝時，應考慮SEM偏轉系統的帶寬以及工作臺移動精度等對曝光圖形誤差和圖形畸變的影響。高檔SEM改裝系統的功能接近于專用電子束曝光機，但由于受到視場小、速度低及自動化程度低等限制，在生產率上不可能與專用電子束曝光系統相比。