敘述離子源的應用介紹
① 離子摻雜與離子束改性 從20世紀60年代開始，人們將一定量的硼、磷或其他元素的離子注入到半導體材料中，形成摻雜。摻雜的深度可用改變離子的能量來控制；摻雜的濃度可通過積分離子流強度來控制。離子注入方法的重復性、可靠性比擴散法好。離子注入摻雜在半導體大規模集成電路的生產中已成為重要環節，用離子注入法取代舊的擴散等工藝在有些器件中已成為必然趨勢。 離子注入在金屬材料的改性中獲得的結果十分引人注目。在常用金屬的離子注入改性中，可以提高金屬的硬度、抗腐蝕性能和抗疲勞強度，降低金屬的磨損率。某些絕緣材料如陶器、玻璃、有機材料經離子束照射以后，性質發生重要的變化，獲得新的用途。 離子束照射和摻雜的過程是非熱平衡過程，因此用這種方法可以獲得用一般冶金和化工方法無法得到的新材料。能量較低(50～400keV)的專門用于離子注入的小型加速器“離子注入機”，已成為一種專門設備，體積相當于一臺電子顯微鏡或高壓示波器，使用維護都很方便。在類......閱讀全文
敘述離子源的應用介紹
① 離子摻雜與離子束改性 從20世紀60年代開始，人們將一定量的硼、磷或其他元素的離子注入到半導體材料中，形成摻雜。摻雜的深度可用改變離子的能量來控制；摻雜的濃度可通過積分離子流強度來控制。離子注入方法的重復性、可靠性比擴散法好。離子注入摻雜在半導體大規模集成電路的生產中已成為重要環節，用離子
離子源的應用離子束
離子源是用以獲得離子束的裝置。我們知道，在各類離子源中，用得最多的是等離子體離子源，即用電場將離子從一團等離子體中引出來。這類離子源的主要參數由等離子體的密度、溫度和引出系統的質量決定。屬于這類離子源的有:潘寧放電型離子源射頻離子源、微波離子源、雙等離子體源、富立曼離子源等。另一類使用較多的離子
高頻離子源的相關介紹
利用稀薄氣體中的高頻放電現象使氣體電離，一般用來產生低電荷態正離子，有時也從中引出負離子，作為負離子源使用。 在高頻電場中，自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞，并使之電離。帶電粒子倍增的結果，形成無極放電，產生大量等離子體。高頻離子源的放電管一般用派勒克斯玻璃或石英管制作。高頻場可由管外螺線
關于細胞自噬的未來應用的敘述
遭到擾亂的自噬過程與帕金森氏病、2型糖尿病和老年人體內其他疾病都有所關聯。自噬基因的突變可以導致遺傳病，自噬機制受到的擾亂還與癌癥有關。目前人們正在進行緊張的研究以開發藥物，能夠在各種疾病中影響自噬機制。 人們知道自噬機制的存在已經50年，但是它在生理學和醫學中的核心重要性只有在大隅良典20世
敘述熱輻射計的分類和應用
熱輻射計的分類 依據熱輻射電磁波的波長可以分為：總（總輻射+對流）熱流計、紅外熱輻射計，總（紅外+可見光）輻射計，陽光輻射強度計等。 依據環境溫度可以分為：低溫熱輻射計，高溫熱輻射計（如火焰量熱計最高可達1900℃）。 熱輻射計的應用 包括輻射加熱源測試，陽光輻射強度和太陽能設備測試，火
敘述加速度傳感器的應用
加速度傳感器主要用于汽車安全氣囊、防抱死系統、牽引控制系統等安全性能方面。 在安全應用中，加速度計的快速反應非常重要。安全氣囊應在什么時候彈出要迅速確定，所以加速度計必須在瞬間做出反應。通過采用可迅速達到穩定狀態而不是振動不止的傳感器設計可以縮短器件的反應時間。其中，壓阻式加速度傳感器由于在汽
機器視覺系統的應用案例相關敘述
在布匹的生產過程中，像布匹質量檢測這種有高度重復性和智能性的工作只能靠人工檢測來完成，在現代化流水線后面常常可看到很多的檢測工人來執行這道工序，給企業增加巨大的人工成本和管理成本的同時，卻仍然不能保證100 %的檢驗合格率（即“零缺陷”）。對布匹質量的檢測是重復性勞動，容易出錯且效率低。 流水
多參數水質測量儀的應用敘述
污水資源再生作為一項新興技術,可以實現生活污水的生態化、無害化處理,在國內外受到越來越多的重視。針對污水處理廠的參數檢測需求,選用SAMSUNG公司基于ARMg核的s3C2410X芯片作為CPU,擴展了CAN控制器、以太網芯片、液晶屏、鍵盤等外圍設備,研制了一個可同時對三個水質監測參數進行檢測的
關于PIG離子源的相關介紹
在外磁場約束下產生反射放電的離子源，是弧放電離子源的改進。在弧放電離子源中，陽極另一端和陰極對稱的位置上，裝一與陰極等電位的對陰極，使陰極發射的電子流在中空的陽極內反射振蕩，提高了電離效率，改變了放電機制。陰極一般用鎢塊制成，由電子轟擊加熱，稱間熱陰極離子源。反射放電電壓較高時，可在冷陰極狀態下
關于電子轟擊離子源的介紹
1、進樣方式：直接進樣、GC； 2、獲得單分子離子的方式：加熱氣化； 3、作用過程：電離方式—高能電子轟擊70eV； 4、水平方向：燈絲與陽極間（0V電壓）—高能電子—沖擊樣品—正離子 5、垂直方向：G3-G4加速電極（低電壓）—較小動能—狹縫準直G4-G5加速電極（高電壓）—較高動能—
紅外線測溫儀的實際應用敘述
溫度、壓力、電流、電壓等都是人們所熟悉的基本物理量。在工業領域內對產品的質量、全工藝流程控制等影響很大，這些基本物理量中，對溫度的測量和標定相比之下難度要大的多。這是因為溫度系統本身的“絕熱” 和“熱量傳輸”的影響是十分復雜的，這就造成了溫度測量標定統體積大，所需要的穩定時間長，精度很難提高等。
氣質聯用儀離子源的相關介紹
離子源的作用是接受樣品產生離子，常用的離子化方式有: 電子轟擊離子化(electron impact ionization，EI)EI是最常用的一種離子源，有機分子被一束電子流(能量一般為70eV)轟擊，失去一個外層電子，形成帶正電荷的分子離子(M+)，M+進一步碎裂成各種碎片離子、中性離子或
關于電子轟擊離子源的機理介紹
極面約0.2特斯拉的磁鐵如NS相吸放置，離子束通過的中，位置具有較大的場強，由此引起離子束的質量歧視效應（在到選出口縫前由于電子束聚焦磁鐵的影響，離子束已按質荷比偏離，因而輸出的離子流與質量有關）。 在性能要求很嚴的離子源中，在設計和裝配時應充分考慮這一位移量和出射角的變化，用機械方法糾正。有
質譜儀器中常用的離子源介紹
使樣品電離產生帶電粒子（離子）束的裝置。應用最廣的電離方法是電子轟擊法，其他還有化學電離、光致電離、場致電離、激光電離、火花電離、表面電離、X 射線電離、場解吸電離和快原子轟擊電離等。其中場解吸和快原子轟擊特別適合測定揮發性小和對熱不穩定的化合物。
質譜儀的敘述
質譜儀以離子源、質量分析器和離子檢測器為核心。離子源是使試樣分子在高真空條件下離子化的裝置。電離后的分子因接受了過多的能量會進一步碎裂成較小質量的多種碎片離子和中性粒子。它們在加速電場作用下獲取具有相同能量的平均動能而進入質量分析器。質量分析器是將同時進入其中的不同質量的離子，按質荷比m/e大小
滲透壓儀應用場所詳細敘述
1.形式犯罪或法庭辯證現場，滲透壓儀作為取證工具。 如：經常去俱樂部狂歡的青少年往往會在飲料中加入毒品， 利用滲透壓儀可以方便檢測出是否在飲料中加入毒品，以便定案。 2.在環境檢測中也可以用到滲透壓儀。 如：測植物葉片時可檢測葉片的滲透壓。 3.測量細胞培養液的滲透壓。 如：測量細胞
質譜分析技術的離子源的介紹
在早期的質譜研究中，涉及的樣品一般為無機物，檢測目的包括測定原子量、 同位素豐度、確定元素組成等。針對這些要求，需要采用的離子源主要包括電感耦合等離子體（ICP）、微波等離子體炬（MPT）和其他微波誘導等離子體（MIP）、電弧、火花、輝光放電等，幾乎能夠用于原子發射光譜的激發源都可用。 質譜的
換向器的應用和組成結構等相關敘述
電流是在主電流電機換向器時而產生的反向電流和電抗電壓，致使電刷在電機換向器表面滑動時會引起邊部火花及電弧.電機換向器對電機機能的影響，取決于在一定前提下其與電刷相對高速滑動時實現電路導通的過程.盡管這個過程的描述比較復雜，且理論研究尚在發展之中，但通過海內外微電機運行狀況的對比分析，可以確定，磨
電子轟擊型離子源的結構特點介紹
電子由直熱式陰極F（或F）發射，在電離室A（陽極）和陰極F或F之間施加直流電位，使電子得到加速，進入電離室中，碰撞氣體使氣體分子電離。在電離室A和聚焦極B之間所加電位作用下，離子加速離開電離室，通過聚焦扳后在減速間隙所加電位作用下，離子減速、聚焦到達離子源出口孔。這個簡單離子源既無單獨的離子推斥
DART離子源
由美國J. Laramee和R. Cody（美JEOL公司）于2005年發明，現由IonSense公司商品化生產、制造和銷售。獲得2005年Pittcon大獎。 DART已廣泛應用于藥物發現與開發（ADME）、食品藥品安全控制與檢測、司法鑒定、臨床檢驗、材料分析、天然產品品質鑒定、及相關化學和
漫談離子源
樣品的離子化是進行質譜分析的重要步驟，如何高效地進行離子化對質譜儀的靈敏度、分辨率等有著重要的影響。?離子源是對樣品進行電離的場所，離子源的主要功能是把中性的原子（或分子）電離成離子，并形成具有一定能量的離子束。不同的質譜儀根據分析用途的不同配備有不同的離子源，這些離子源由于電離方式不同，具有不同的
ICP離子源
使用氬氣作為等離子氣的原因：氬的第一電離能高于絕大多數元素的第一電離能(除He、F、Ne外)，且低于大多數元素的第二電離能(除Ca、Sr、Ba等)。因此，大多數元素在氬氣等離子體環境中，只能電離成單電荷離子，進而可以很容易地由質譜儀器分離并加以檢測。ICP離子源中的物質1）? 已電離的待測元素：As
離子源加熱的問題
現象：????? 今天我更換5975的離子源，換上一個清洗過的離子源，剛開始抽真空時便嗅到一股強烈的塑料燒焦的味道從MSD中傳出，打開instrument control界面時發現離子源溫度顯示為511攝氏度隨后離子源報錯。放真空后重新安裝離子源后，再抽真空又能嗅到強烈的焦味，檢查真空狀態時仍顯示離
質譜儀離子源的維護
離子源的維護離子源的維護主要是離子源的清洗。這里以目前較為常用的ESI離子源為例，簡單闡述其清洗要點，ESI離子源的清洗非常重要一般情況下，每隔幾天就需對離子源進行一次清洗。各個儀器廠家的ESI離子源雖然存在一定差別，但清洗的方法卻大同小異。首先是離子源的拆卸，每個儀器廠商的離子源耦合到質譜上的方式
質譜儀離子源的清洗
? ??1、降低接口溫度、離子源溫度、四極桿溫度（以四極桿質譜儀為例），關閉質譜儀電源。 2、打開卸壓閥，緩慢卸壓到常壓。 3、打開離子源艙門（此步驟開始最好佩帶口罩以及不掉毛手套）。 4、使用專用工具按照拆卸步驟將離子源整體取出放置在的清洗臺面。 5、使用專用工具將離子源各部件一一拆開，分
離子源的作用是什么，試述幾種常見離子源的原理
離子源的作用是什么，試述幾種常見離子源的原理利用稀薄氣體中的高頻放電現象使氣體電離，一般用來產生低電荷態正離子，有時也從中引出負離子，作為負離子源使用。在高頻電場中，自由電子與氣體中的原子(或分子)碰撞，并使之電離。帶電粒子倍增的結果，形成無極放電，產生大量等離子體。高頻離子源的放電管一般用派勒克斯
均質機的工作原理敘述
轉子和定子的精密配合，工作頭（轉子和定子鍛件制造）爪式結構，雙向吸料，剪切效率高。間歇式高剪切分散乳化均質機是通過轉子高速平穩的旋轉，形成高頻、強烈的圓周切線速度、角向速度等綜合動能效能；在定子的作用下，定、轉子合理狹窄的間隙中形成強烈、往復的液力剪切、摩擦、離心擠壓、液流碰撞等綜合效應，物料在
光子的特性詳細敘述
光子能夠在很多自然過程中產生，例如：在分子、原子或原子核從高能級向低能級躍遷時電荷被加速的過程中會輻射光子，粒子和反粒子湮滅時也會產生光子；在上述的時間反演過程中光子能夠被吸收，即分子、原子或原子核從低能級向高能級躍遷，粒子和反粒子對的產生。 在真空中光子的速度為光速，能量E和動量p之間關系為
無機質譜儀的相關敘述
無機質譜儀 火花源雙聚焦質譜儀。 電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）。 二次離子質譜儀（SIMS） 輝光放電質譜儀（GDMS） 但以上的分類并不十分嚴謹。因為有些儀器帶有不同附件，具有不同功能。例如，一臺氣相色譜-雙聚焦質譜儀，如果改用快原子轟擊電離源，就不再是氣相色譜-質譜聯用儀
基因診斷的相關敘述
當環境中的有害物質進入受精卵或母體，當父母有一定的共同血緣或有一定相同數目的遺傳基因關系，在這些情況下，后代的基因組里的基因會發生缺陷，產生疾病。通過使用基因芯片等技術分析人類基因組，可找出致病的遺傳缺陷基因區域。癌癥、糖尿病等，大部分是遺傳基因缺陷引起的疾病。醫學和生物學研究人員將能在數秒鐘內